Nikon rilascia la NSR

Supporta una varietà di dispositivi a semiconduttore e può integrare o sostituire gli stepper esistenti

31 agosto 2023

TOKYO - Nikon Corporation è lieta di annunciare il lancio dello stepper i-line con riduzione 5x NSR-2205iL1, che verrà utilizzato per produrre una varietà di dispositivi come semiconduttori di alimentazione e comunicazione e MEMS, ed è completamente compatibile con i modelli Nikon i-line esistenti. sistemi di esposizione in linea. Il 2205iL1 offre un'eccellente convenienza e consentirà la produzione ottimizzata di vari dispositivi a semiconduttore indipendentemente dal materiale del wafer. L'NSR-2205iL1 rappresenta il rinnovamento più significativo della tecnologia stepper Nikon 5x negli ultimi venticinque anni e lo sviluppo del sistema è stato una risposta diretta alla domanda dei clienti per questi sistemi di litografia che svolgono un ruolo così essenziale nella produzione di chip.

Man mano che i veicoli elettrici, le comunicazioni ad alta velocità e vari dispositivi IT diventano sempre più diffusi, la domanda di semiconduttori per supportarli sta crescendo in modo esponenziale. Questi semiconduttori devono eseguire una serie di funzioni impegnative e, di conseguenza, i produttori di dispositivi necessitano di substrati specializzati e sistemi di esposizione per produrre tali chip. Nikon spesso soddisfa questi requisiti del sistema di litografia attraverso mezzi come il ricondizionamento di stepper precedentemente posseduti. Tuttavia, la fornitura di stepper ricondizionati può essere limitata e potrebbe non essere sufficiente a soddisfare le richieste dei clienti. Pertanto, per fornire ulteriori soluzioni flessibili per apparecchiature di esposizione, Nikon sta lanciando un nuovo stepper i-line 5x che sfrutta le conoscenze ottenute lavorando a stretto contatto con i clienti al fine di fornire loro soluzioni specializzate per soddisfare la domanda del mercato e affrontare la necessità di stepper limitati e obsoleti. fornitura. Oltre ad espandere varie opzioni per soddisfare le diverse esigenze dei clienti, questo stepper i-line di nuova concezione supporterà anche la produzione di dispositivi a lungo termine.

L'NSR-2205iL1 garantirà un'elevata produttività ottimizzando al tempo stesso il livello di rendimento per una varietà di processi di produzione di semiconduttori attraverso la misurazione dei wafer ad alta precisione utilizzando l'autofocus multipunto (AF), il livellamento avanzato dello stadio dei wafer*1 e l'ampio DOF (intervallo di profondità di messa a fuoco ampliato), tra gli altri vantaggi. Inoltre, è adatto per una varietà di applicazioni grazie alla compatibilità dello spessore e delle dimensioni del wafer, all'elevata tolleranza alla deformazione del wafer e alle capacità flessibili, incluso ma non limitato al supporto della lavorazione SiC (carburo di silicio) e GaN (nitruro di gallio). Lo stepper i-line NSR-2205iL1 offrirà un'eccellente convenienza soddisfacendo al tempo stesso le diverse esigenze dei produttori di chip.

I clienti che dispongono di sistemi di esposizione Nikon i-line nella loro fabbrica possono continuare a utilizzare le risorse e le operazioni già in atto, come fotomaschere e ricette di esposizione dei wafer. Oltre ad essere compatibile con le operazioni degli stabilimenti esistenti, il 2205iL1 può integrare o sostituire gli stepper esistenti che non soddisfano più i requisiti di produzione.

L'NSR-2205iL1 può essere utilizzato con sicurezza per un lungo periodo di tempo perché il suo design utilizza componenti generici disponibili in commercio, rendendo più semplice che mai l'approvvigionamento di parti e fornendo una soluzione litografica più sostenibile per il futuro.

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